石佛廟摩崖造像

石佛廟摩崖造像（第三批）。

保護(hù)范圍：東至石體頂部，南向以1號(hào)龕為基點(diǎn)外延3米至民房墻腳，西向以石體底部為基點(diǎn)外延20米，北向以5號(hào)龕為基點(diǎn)外延10米。

建設(shè)控制地帶：保護(hù)范圍外延30米。

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